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光刻膠是微電子制造中常用的一種材料，用于制備微米或納米尺度的圖案和結構，是半導體芯片、平板顯示器、光學器件等微電子產品的關鍵組成部分。

在光刻過程中，光刻膠首先被涂覆在硅片或其他基板表面，然后經過曝光、顯影等步驟，形成所需的圖案和結構。在這一過程中，烘箱被用來加速光刻膠的固化和干燥，以確保光刻膠在曝光和顯影過程中具有良好的性能和穩定性。

在光刻膠的涂覆過程中，烘箱被用來加熱光刻膠，促使其均勻地涂覆在基板表面。通過加熱，光刻膠的粘度降低，流動性增加，有助于形成均勻的光刻膠薄膜。這樣可以確保光刻膠在基板表面形成平整、無氣泡、無缺陷的涂層，為后續的曝光和顯影提供良好的基礎。

在曝光過程中，烘箱也扮演著重要的角色。在曝光后，光刻膠中的光敏劑受到光照，產生化學反應，使得光刻膠在曝光區域發生化學變化。然而，這種化學變化需要在一定的溫度下進行，以確保其充分發生。因此，在曝光后，烘箱通常被用來對光刻膠進行預烘，以加速化學反應的進行，提高曝光的效率和精度。

在顯影過程中，烘箱也發揮著重要作用。顯影是將曝光后的光刻膠通過化學溶解去除未曝光區域的步驟。在顯影前后，烘箱通常被用來對光刻膠進行后烘處理，以去除殘留的溶劑和水分，確保光刻膠固化和干燥徹底。這有助于提高圖案的清晰度和分辨率，確保光刻膠的性能和穩定性。

烘箱在光刻膠加工中發揮著不可替代的作用，為光刻工藝提供了必要的溫度控制和加熱環境。通過烘箱的加熱作用，可以加速光刻膠的固化和干燥過程，提高生產效率和產品質量，從而滿足微電子制造領域對高性能、高精度制造工藝的需求，推動科技創新和產業發展。